Parki technologiczne są miejscem rozwoju nowoczesnych technologii na całym świecie. Stanowią ogniwo łączące i przetwarzające innowacyjny pomysł w nowoczesne rozwiązanie technologiczne, wdrażane następnie w przemyśle. Wspierają przedsiębiorczość opartą na wiedzy oraz wzmacniają przedsiębiorstwa tworzące podstawy długofalowego rozwoju regionu. Pobudzają także aktywność zawodową regionalnej społeczności i poprawiają spójność ekonomiczną regionu z pozostałymi regionami kraju i zagranicy. Głównym zadaniem parków jest tworzenie nowych oraz wspieranie już istniejących lokalnych przedsiębiorstw o charakterze innowacyjnym, dlatego parki technologiczne mają zasadniczy wpływ na rozwój innowacyjności i konkurencyjności regionu. Stanowią istotny element podnoszący inwestycyjną atrakcyjność regionu, a więc powodujący zwiększenie zainteresowania potencjalnych inwestorów krajowych i zagranicznych tworzących nowe, atrakcyjne miejsca pracy.
Publikacja skierowana jest do studentów, pracowników parków, inkubatorów technologii, administracji publicznej, oraz osób zawodowo zajmujących się polityką regionalną, polityką spójności Unii Europejskiej i wykorzystaniem funduszy strukturalnych szczególnie w obszarze innowacyjnej gospodarki.

Dr Adam Oleksiuk – jest absolwentem Wydziału Zarządzania Uniwersytetu Warszawskiego. Obronił pracę doktorską z ekonomii w Kolegium Zarządzania i Finansów Szkoły Głównej Handlowej w Warszawie. Ukończył również podyplomowe studia Akademii Rozwoju Regionalnego Europejskiego Centrum Studiów Regionalnych i Lokalnych Uniwersytetu Warszawskiego. Adam Oleksiuk jest pracownikiem naukowo-dydaktycznym wyższych uczelni. Posiada doświadczenie zawodowe z zakresu analiz makroekonomicznych, planowania strategicznego i ekspertyz rynkowych zdobyte m.in. w Rządowym Centrum Studiów Strategicznych, Ministerstwie Rozwoju Regionalnego oraz doradztwie gospodarczym. Opublikował szereg artykułów i analiz o tematyce ekonomicznej w prasie fachowej polskiej i zagranicznej. Jest autorem oraz współautorem kilku monografii i podręczników.